UV光解凈化設(shè)備定制可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。占地面積小，自重輕，適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

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UV光解凈化設(shè)備定制工藝原理及說明

1、UV光解光催化氧化凈化工藝

對于光解光催化氧化去除揮發(fā)性有機惡臭污染物的歷程一般認(rèn)為由以下兩步:

1）紫外線照射有機惡臭氣體分子鏈，將大分子切斷裂解成小分子;

2)臭氧對被裂解的小分子氣體進(jìn)─步氧化;

性能優(yōu)勢：

1、除惡臭：能去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，凈化、脫臭效率較高可達(dá)99%以上，凈化、脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）．

　　2、無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使工業(yè)廢氣通過本設(shè)備進(jìn)行分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

　　3、適應(yīng)性強：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。

　　4、運行成本低：本設(shè)備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.2度電能），設(shè)備風(fēng)阻極低＜50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。

　　5、無需預(yù)處理：工業(yè)廢氣無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在3-11之間均可正常工作。

　　6、占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

UV光解凈化設(shè)備定制應(yīng)用范圍：

（1）適合處理各種惡臭廢氣、腐臭廢氣、噴漆廢氣、噴涂廢氣、電泳廢氣、電鍍廢氣、印刷印染廢氣、生物制藥廢氣、廢水污水臭氣廢氣、污泥臭氣處理等。

（2）可以處理各種廢氣，等離子不適合處理的廢氣（比如噴漆廢氣、噴涂廢氣、化工廢氣、含汽油酒精廢氣、含天那水廢氣、油漆廠廢氣、化肥廠廢氣等），如果采用UV光解設(shè)備，安全性更高。

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